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液体硅胶清洗剂 无闪点 清洗快 Enasolv MC系列溶解性好 未固化

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应用行业: 机械制造
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—— 产品详情 ——
物性名称 物性值 备注(测试条件)
重量 25 KG /
沸点 68 ℃ /
纯度 ≥99.5 % /
Enasolv MC 是上海锐一环保科技研发生产的一款不可燃环保精密清洗剂 **,化学定位为三氯乙烯 (TCE)、全氯乙烯 (PERC) 等传统氯化溶剂的高性能替代品,具有零 ODP(臭氧破坏潜能)、无闪点(ASHRAE A1 级不可燃)、沸点 68℃(挥发适中)、KB 值优异(溶解力强)、材料兼容性广等核心特性,专为电子、精密机械、光学、金属加工等领域的精密清洗设计,可直接沿用现有蒸汽脱脂和超声波清洗设备,是符合 GB38508-2020 新 VOC 排放标准的高效安全环保清洗解决方案。**

一、产品概述

Enasolv MC 是一款高纯度环保溶剂型清洗剂,纯度高达99.5% 以上,常温下为无色透明液体,几乎无刺激性气味。作为传统氯化溶剂的理想替代品,它不含氯元素,ODP=0,对臭氧层无破坏作用,同时具有较低的全球升温潜能值 (GWP),符合《蒙特利尔议定书》和基加利修正案的长期环保要求。
该产品兼具了氟碳化合物的安全性和优良的溶解能力,特别适合对清洗精度和环保要求极高的精密工业领域,同时还可用于涂层稀释、设备维护保养等多种场景。Enasolv MC 清洗剂可直接沿用 TCE、PERC 现有清洗设备,无需大规模改造,是电子、半导体、光学等行业实现绿色生产转型的理想选择。

二、核心优势

1. 极致环保,全球合规

  • 零臭氧破坏潜能:ODP=0,完全符合《蒙特利尔议定书》和基加利修正案要求,不破坏臭氧层
  • 低 GWP 值:全球升温潜能值远低于传统氯化溶剂和部分 HFC 溶剂,符合低碳环保趋势
  • 低 VOC 排放:符合 GB38508-2020 新国标 VOC 限值要求,减少大气污染
  • 不含有害物质:无重金属、无芳香烃、无氯化物,符合欧盟 RoHS 指令和 REACH 法规,保障产品出口合规性
  • 非危险品运输:按非危险品分类,运输和储存成本低,无特殊限制

2. 高效清洗,精密干燥

  • 强劲溶解力:KB 值优异,对油脂、蜡、松香助焊剂、硅油、轻 / 重油污等多种工业污染物有良好溶解能力,可有效去除顽固污渍
  • 适中挥发速度:沸点 68℃,既能满足快速干燥需求(清洗后迅速挥发,无需二次清洁),又避免过度挥发浪费,适合耐热性较弱的零件清洗
  • 高渗透性:表面张力低,能深入微小缝隙(0.1mm 以下)和盲孔,彻底清除隐藏污垢和颗粒,清洗效果彻底
  • 超低残留:清洗后表面残留 < 100ppm,避免二次污染,提高产品合格率
  • 高土壤负载能力:可循环使用,减少溶剂更换频率,降低使用成本

3. 安全可靠,操作便捷

  • 不可燃安全优势:无闪点,ASHRAE A1 级(不可燃),无需特殊防爆和通风设计,操作安全性极高
  • 低毒低风险:高 AEL(允许暴露限值),对操作人员健康影响小,长期接触风险低
  • 材料兼容性广:适用于多数金属(钢、铝、铜、镁、钛、不锈钢等)和大部分非金属材料(塑料、橡胶、玻璃、陶瓷等),不腐蚀、不溶胀
  • 设备适配性强:可直接沿用 TCE、PERC 现有清洗设备(蒸汽脱脂机、超声波清洗机),无需大规模改造,降低投资成本
  • 工艺灵活性高:适用于浸泡洗、喷淋洗、超声波清洗、汽相去脂、蒸汽脱脂等多种清洗方式,适配性强

4. 多用途适配,经济实用

  • 多领域应用:除清洗外,还可用于涂层稀释、设备维护保养、金属表面预处理等场景
  • 降低综合成本:可循环使用,减少溶剂消耗;无需设备改造,节省投资;提高清洗效率,降低工时成本
  • 减少废弃物处理:清洗废液量少,处理成本低,符合绿色生产要求
  • 供应链稳定:国内生产基地布局,产能充足,供货稳定,保障客户生产连续性
  • 维护简便:设备维护成本低,减少停机时间,提高生产效率

三、技术参数表

参数项目具体数值备注
产品名称Enasolv MC 环保清洗剂上海锐一环保科技研发生产
化学定位三氯乙烯 (TCE) 替代品不含氯元素,环保安全
外观无色透明液体几乎无刺激性气味
纯度≥99.5%工业标准要求
沸点68℃标准大气压下,挥发适中
凝固点-80℃以下低温稳定性好
闪点ASHRAE A1 级,不可燃
密度约 1.35g/cm³@25℃高密度,清洗效果好
表面张力约 18mN/m@25℃渗透性佳,深入微小缝隙
KB 值约 90良好溶解力,适合多种污染物
ODP 值0零臭氧破坏潜能,符合蒙特利尔协议
GWP 值低(远低于传统氯化溶剂)符合低碳环保要求
蒸气压约 100mmHg@25℃挥发性适中,适合汽相清洗
水溶解度约 0.3g/L@25℃低水溶性,减少水分污染
介电强度>25kV/mm高介电强度,可安全用于电子带电清洗
包装规格25KG / 桶、250KG / 桶满足不同应用场景需求
适用温度-20°C 至 60°C操作温度范围广
清洗方式浸泡、喷淋、超声波、汽相去脂、蒸汽脱脂等工艺灵活性高

四、应用领域

1. 电子与半导体行业应用

  • PCB 板助焊剂、焊锡膏残留、离子残留清除,特别适合高精度 SMT 工艺
  • 电子元器件、IC 封装、IPM、IGBT 模块清洗,保障电气性能稳定
  • 半导体芯片、晶圆、光伏组件清洗,去除光刻胶残留和颗粒污染
  • 显示面板(OLED、LCD)清洗,去除制程中的油污和杂质
  • 印错版、网版等焊锡膏的去除,提高生产效率

2. 精密机械与金属加工领域

  • 金属加工件油脂、切削液、颗粒和粘结剂去除,提高表面光洁度
  • 轴承、齿轮、精密仪器零部件清洗,延长使用寿命
  • 汽车电子零部件(传感器、ECU、连接器)清洗,提高可靠性
  • 航空航天精密部件清洗(高度物理和化学稳定性),满足严苛要求
  • 医疗器械精密部件清洗(低残留,高洁净度),符合医疗级标准

3. 光学与玻璃领域

  • 光学器件(镜头、棱镜、镜片)表面油污和粉尘清洗,不损伤光学涂层
  • 光学仪器内部和外部表面清洁,提高成像质量
  • 精密光学模具清洗,保证模具精度
  • 液晶显示面板残留清洗,提高显示效果

4. 其他工业应用

  • 塑料件清洗、涂层稀释、设备维护保养,提高生产效率
  • 金属表面预处理(脱脂、除油、除锈),提高涂层附着力
  • 医疗器械精密部件清洗(低残留,高洁净度),符合医疗级标准
  • 航空航天氧气系统清洗(低反应性,安全性高),满足特殊行业要求


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