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本品为加有HF且HF活度稳定的性能改进的缓冲剂,用于平面钝化、制作晶体管、集成电路、二极管、检波器、SCR、MOS、FET的半导体技术中选择溶解SiO2。
独特的优点
·经济便宜,使用方便
·HF活度稳定
·良好的工艺重复性
·不会出现边下蚀被掩蔽的氧化物
·不扩散硅表面着色
·硅表面不污染
·光刻胶涂层不受影响
说明
化学试剂//www.echem360.com/
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