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说明
氧化锡/氧化铟锡蚀刻剂TE—100是微电子产品氧化锡和氧化铟锡(ITO)膜层的选择蚀刻剂。它能有效地蚀刻沉积在陶瓷、介电质、半导体和许多金属上的ITO和氧化锡膜。TE—100蚀刻线清晰、蚀刻速率可控。与阴性和阳性光刻胶具有广泛的匹配性。TE—100与镍、铜、镍铬和铝不匹配。
性质
外观 |
深琥珀色 |
蚀刻速率,25℃ |
15~20 ?/秒 |
操作温度 |
40~50℃ |
冲洗 |
去离子水 |
贮存 |
20~25℃ |
有效期 |
在15~25℃,1年 |
应用
化学试剂//www.echem360.com/
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