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电镀助剂,线路板填孔剂

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1、 面铜只需镀17-25um即可填满盲孔。

2、 A/R比3:1通孔TP值可维持在80%以上。

3、 光亮剂稳定性良好,分解产物少,且活性炭过滤周期长。

4、 镀铜内应力极低,对软板镀铜后不易造成板翘。

5、 镀层特性同时注重较强的抗张强度Elongation,抗拉强度为30-40KN/cm2,Elongation也有15-20%以上。

6、 针对孔径较大的盲孔(开口125um),只需调整部分添加剂浓度即可将盲孔填满。


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 镀液组成及操作条件  范围  标准
 硫酸铜 210-230g/L   220g/L
 硫酸  45-55g/L  50g/L
 CI-  45-55ppm  50ppm
 PCB-200 B 光亮剂  1.0-3.0ml/L  2ml/L
 PCB-200 C 运载剂  15-25ml/L  20ml/L
 PCB-200 L 整平剂  3.0-8.0ml/L  5ml/L
 电流密度  1.0-2.5A/dm2  1.8A/dm2


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1、 预备槽中放入总体积的2/3体积纯水;

2、 边搅拌边加入所需量50g/L的硫酸,然后加入220g/L硫酸铜搅拌至完全溶解,再缓慢加入0.1ml AR级37%HCl;

3、 加入2-3g/L的活性炭,鼓气充分搅拌1-2小时,静置使活性炭沉淀,经二至三级过滤机过滤后,移至工作镀槽;

4、 待液温降至30℃以下时,以0.1-0.5A/dm2进行3-5小时电解,并完成镀液的调整,直至铜阳极生成一层均匀致密的黑膜;

5、 试镀正常后,即可投入生产。


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 故障现象  可能原因  纠正方法
 镀层烧焦  硫酸铜含量过低  补充硫酸铜
 硫酸含量过高  稀释镀液
 电流密度过大  降低电流密度
 镀液温度太低  提高镀液温度
 搅拌差  增强空气搅拌
 光亮剂偏低  用赫尔槽试验确定光剂添加量
 阳极过大或过多  阳极:阴极面积=2:1
 图形镀时,导线密度过稀  加假阴极
 镀层光亮度差  光亮剂失调  用赫尔槽试验确定光剂添加量
 有机分解产物过多  用活性炭处理槽液
 镀液温度过高  开启冷却系统降温
 氯离子含量低  补充氯离子
 电流密度过小  提高电流密度
 镀液太脏  过滤镀液
 前处理不当  检查并纠正前处理
 镀液分散能力差  铜离子含量过高  稀释镀液
 硫酸含量过低  增加硫酸
 温度过高  开启冷却系统降温
 金属杂质影响  进行电解处理
 光亮剂含量不当  调整光亮剂
 镀层粗糙  阳极溶解不正常,阳极袋破损

 增加阳极面积,检查阳极铜的磷含量,

更换新阳极袋

 麻点  搅拌不均匀  加强过滤
 镀液中有油污污染  活性炭处理
 镀液中有固体颗粒悬浮  加强过滤
 镀层有条纹  光亮剂过量  净化处理镀液或电解处理
 有机杂质过多  活性炭处理
 镀前清洗液不当  检查镀前清洗液 及时更换
 阳极钝化(电流开不大)  阳极与阴极面积比不正常  调整阳极与阴极面积比=2:1

 阳极袋过紧或空隙堵塞

 阳极含磷量过高

 氯离子含量过高

 检查阳极袋并适当清洗

 含磷量应在0.04-0.06%

 稀释槽液 清洗阳极

 孔内有空白点  化学镀铜层不完整  检查化学镀铜线并做调整
 镀液里有微小颗粒杂质  过滤槽液
 镀前酸洗时间过长  控制浸酸时间
 镀层脆性大  光亮剂含量高  电解 调整光亮剂
 镀液温度过低  提高镀液温度
 镀层有颗粒瘤状物  光亮剂浓度过低  调整添加光亮剂
 温度太高  降温
 电流密度过大  降低电流密度
 抗张力强度差  镀液里杂质过多 并产生了共沉积  定期处理镀液
 镀层分层、脱皮  镀前预处理不良  加强前处理 定期检查更换
 显影不良而存在余胶  加强显影工艺 及时更换新显影液
 局部镀不上  有干膜残余物或其他污物  加强显影 可用刷镀方法修复


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1、 配制槽液添加硫酸时,需特别小心,应穿上保护衣物,及带上手套、眼罩,以确保安全。


2、特别注意补加添加剂时,不可预先混合一起加入镀槽





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