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直上镍光亮剂,镀镍添加剂

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1、 均镀能力强,低电流覆盖力极强**的整平能力和出光速度,特别适用于直上镍工艺。

2、 操作范围宽广,容易操作控制。

3、 镀层的延展能力**,镀层防腐能力强。

4、 应用范围宽,可应用于钢铁件、黄铜件、锌合金件及塑料等底材。

5、 高浓缩,低消耗,杂质容忍度极高,维护使用方便。


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 原料及操作条件  范围  标准
 **  240-300g/L  270g/L
 氯化镍  50-60g/L  50g/L
 硼酸  40-50g/L  40g/L
 NI-88 光亮剂  0.3-0.5ml/L  0.4ml/L
 NI-88 柔软剂  8-12ml/L  10ml/L
 MT-80 润湿剂  1-2ml/L  1ml/L
 pH  4-5
 温度  50-60℃
 阴极电流密度DK  2-10A/dm2
 搅拌条件  阴极移动或空气搅拌



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1、NI-88开缸剂减少镀层内应力,使低电流密度区覆盖率良好,用活性炭连续过滤只能除去微量的NI-88开缸剂,电解消耗量也很少,NI-88开缸剂

消耗量约为80-120ml/KAH

2、在新配镀液时需同时加入NI-88 开缸剂、NI-88补加剂、润湿剂发挥作用。NI-88补加剂消耗量为100-150ml/KAH

3、润湿剂MT-80可维持镀液表面的张力,所以能防止针孔,MT-80适合于空气搅拌。


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1、 在备用槽内加入所需体积二分之一的水,将水加热至60~70℃加入所需**和氯化镍,充分搅拌至溶解;

2、 用10%稀硫酸(CP)调pH值至3.0,加入2~3ml/L双氧水(30%),搅拌半小时,然后用4%**溶液(碳酸镍固体)调pH值至5.5~6.0,并加温至65~70℃,保温半小时;

3、 维持水温在50~55℃,加入2~3g/L活性碳,充分搅拌半时,静置数小时,过滤至镀槽;

4、 将所需硼酸另外用沸水溶解,过滤后加入镀槽;

5、 加水至接近预定体积,用10%稀硫酸(CP)调PH至3.0恒温在55℃左右,用瓦楞阴极在DK≈0.3A/dm2左右电解处理,至瓦楞板上低电流密度区银灰色为止;

6、 取少量镀液,用霍尔槽及小型镀槽加入所需添加剂NI3000,在正常工艺条件下试镀,若不正常, 则将大槽内镀液继续进行电解处理,至正常为止;

7、 在大槽内,按规定量加入添加剂,在正常条件下试镀,直至正常。


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1、配制槽液选用的**、氯化镍、硼酸的杂质尽量纯净,性能优良。

2、硼酸的溶解度不高,一般需要另外用沸水溶解后倒入槽中,并且在活性炭处理过滤后加入,防止硼酸过滤析出。

3、活性炭处理槽液时候,活性炭的加入应该按照“少量多次”的补加原则。

4、瓦楞板:波浪状的板,一般使用铁片即可**次使用一定要事先全部镀层镍。

5、电解槽液。电解前先用大电流DK≈3A/dm2电解1-2分钟后使用DK≈0.3A/dm2电解。如果电解过程中镀层发黑,需要打磨后再继续电解,至瓦楞板上低电流密度区银灰色为止


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NI除杂走位水、QF除铁粉的使用

在镀镍过程中,镀槽内经常有铁杂质,铜离子,锌离子等杂质产生,影响镍镀层的质量,因此本公司特别推荐NI除杂走位水和QF除铁粉这两款产品。

这两款产品不仅能够有效的除去镀液中的杂质,还有一定的覆盖和分散能力,使镀层质量大大提高。

其功能如下:

1、NI除杂走位水用于锌合金基材镀镍、除锌、除铜,它能改变锌、铜离子电位与镍共沉积。加入1-2ml/L NI除杂走位水可沉积20mg锌及10mg铜杂质,消耗量:100ml/KAH

2、NI除杂走位水具有强烈覆盖和分散功能,特别适合深孔电镀。

3、NI除杂走位水能够抵消过多的主光剂,使槽液光剂保持稳定性,使镀件保持高雅白亮镀层。

4、当电镀铁管状工件时,槽液中有较多的铁杂质,使镀件产生毛刺,加入QF除铁粉0.1-0.2g/L能使毛刺和针孔消除。

5、光亮镍、珍珠镍除杂水,络合性除锌、铜杂质直接加入镀槽不影响生产,消耗量:100ml/KAH





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