1、 HD半光亮镍工艺是专门为防腐蚀性能要求高的电镀件而设计，是双层镍或多层镍系统电镀中的半光亮镍底层。

2、 镀层硫含量低于0.003%，半光亮镍层与光亮镍层电位差达120-145mv，耐蚀性极好；

3、 镀层柔软性好，覆盖能力强，填平效果**；

4、 光亮剂浓度高，消耗量小；

5、 不含香豆素，分解产物少，镀液稳定，容易维护，降低了废水处理和活性碳处理的成本。

1、 在备用槽内加入所需体积二分之一的水，将水加热至60～70℃加入所需**和氯化镍，充分搅拌至溶解；

2、 用10%稀硫酸(CP)调pH值至3.0，加入2～3ml/L双氧水(30%)，搅拌半小时，然后用4%**溶液(碳酸镍固体)调pH值至5.5～6.0，并加温至65～70℃，保温半小时；

3、 维持水温在50～55℃，加入2～3g/L活性碳，充分搅拌半时，静置数小时，过滤至镀槽；

4、 将所需硼酸另外用沸水溶解，过滤后加入镀槽；

5、 加水至接近预定体积，用10%稀硫酸(CP)调PH至3.0恒温在55℃左右，用瓦楞阴极在D_K≈0.3A/dm²左右电解处理，至瓦楞板上低电流密度区银灰色为止；

6、 取少量镀液，用霍尔槽及小型镀槽加入所需添加剂NI3000，在正常工艺条件下试镀，若不正常, 则将大槽内镀液继续进行电解处理，至正常为止；

7、 在大槽内，按规定量加入添加剂，在正常条件下试镀，直至正常。

1、 配制槽液选用的**、氯化镍、硼酸尽量纯净，性能优良。

2、 硼酸的溶解度不高，一般需要另外用沸水溶解后倒入槽中，并且在活性炭处理过滤后加入，防止硼酸过滤析出。

3、 活性炭处理槽液时候，活性炭的加入应该按照“少量多次”的补加原则。

4、 瓦楞板：波浪状的板，一般使用铁片即可**次使用一定要事先全部镀层镍。

5、 电解槽液。电解前先用大电流D_K≈3A/dm²电解1-2分钟后使用D_K≈0.3A/dm²电解。如果电解过程中镀层发黑，需要打磨后再继续电解，至瓦楞板上低电流密度区银灰色为止。